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산업/재계

한·중 특허청장 회담, 양국 경제협력 재점화

특허 공동심사 양해각서 체결…올해 중앙정부 부처 간 최초 의미

      

성윤모 특허청장은 중국의 션창위 국가지식산권국장과 지난 17일 중국 항저우에서 청장회담을 갖고 특허·디자인 분야에서 양국의 협력성과가 국제적인 성공 사례로 이어질 수 있도록 그 협력 수준을 높여 나가기로 했다고 특허청이 19일 밝혔다.

성윤모 특허청장(왼쪽)과 션창위 중국 국가지식산권국장이 양국에 출원된 동일한 발명을 한·중 심사관이 함께 심사하는 ‘특허 공동심사(CSP) 사업’에 관한 양해각서(MOU)를 맺은 뒤 악수하고 있다.(제공=특허청)
성윤모 특허청장(왼쪽)과 션창위 중국 국가지식산권국장이 양국에 출원된 동일한 발명을 한·중 심사관이 함께 심사하는 ‘특허 공동심사(CSP) 사업’에 관한 양해각서(MOU)를 맺은 뒤 악수하고 있다. (제공=특허청)

특히 이번 회담에서는 양국에 출원된 동일한 발명을 한·중 심사관이 함께 심사하는 ‘특허 공동심사(CSP) 사업’에 관한 양해각서(MOU)가 체결됐다.

이는 중국이 최초로 CSP 사업에 참여하기 위해 한국과 손을 잡았다는 데 의미가 있다. 또한 이 양해각서는 올해 양국 중앙정부 부처 간에 처음으로 체결된 것이다.

양국 특허청은 디자인 우선권 서류의 전자적 교환을 조속히 추진하는 방안에도 합의했다.

이는 한국 출원인이 중국에 디자인을 출원할 때나 그 반대의 경우 제출해야 하는 우선권 서류를 양국 특허청이 전자적으로 교환하는 것으로, 서류제출에 따른 비용과 부담이 크게 절감될 것으로 기대된다. 아직까지 국가 간에 디자인 우선권 서류를 전자적으로 교환하는 사례는 없다.

양국 특허청은 중국이 추진 중인 디자인 심사역량 강화, 디자인 분류체계 개발 등에 한국이 적극 협조하기로 하는 등 디자인 분야에서도 협력을 더욱 강화해 나가기로 했다.

그간 특허청은 CSP, 디자인 우선권 서류 전자적 교환 등 중국이 새롭게 시도하는 대외협력 사업을 함께하기 위해 중국과 실무협의를 지속해 왔다. 내외부적 요인으로 지체되던 논의가 최근의 우호적 한·중 관계 속에서 진전을 보이며 지재권 분야의 한·중 협력 강화로 이어진 것으로 풀이된다.

성윤모 특허청장은 “중국이 세계 최대 시장이자 지재권 최다 출원 국가라는 점에 비춰 볼 때 이번 회담에서 합의된 양국 간 지재권 획득 절차 간소화 조치 등은 중국 진출 우리 국민과 기업에 적지 않은 편익을 가져다 줄 것”이라면서 “지재권 국제무대에서 입지를 강화하고 있는 한국과 중국의 협력 증진은 지재권 분야의 국제 논의와 규범 형성을 선도해 나가는 데 있어 양국 모두에게 큰 보탬이 될 것으로 전망된다”고 밝혔다.